Ang target na halaga ng relative humidity sa isang semiconductor (FAB) na malinis na kwarto

Ang target na halaga ng relative humidity sa isang semiconductor (FAB) na malinis na kwarto ay humigit-kumulang 30 hanggang 50%, na nagbibigay-daan sa isang makitid na margin ng error na ±1%, tulad ng sa lithography zone – o mas kaunti pa sa far ultraviolet processing (DUV) zone – habang sa ibang lugar maaari itong i-relax hanggang ±5%.
Dahil ang relatibong halumigmig ay may hanay ng mga salik na maaaring magpababa sa pangkalahatang pagganap ng mga malinis na silid, kabilang ang:
1. Paglago ng bacterial;
2. Hanay ng kaginhawaan sa temperatura ng silid para sa mga tauhan;
3. Lumilitaw ang electrostatic charge;
4. Kaagnasan ng metal;
5. Pagkondensasyon ng singaw ng tubig;
6. Pagkasira ng litograpiya;
7. Pagsipsip ng tubig.

Ang bakterya at iba pang biological contaminants (mga amag, virus, fungi, mites) ay maaaring umunlad sa mga kapaligiran na may humidity na higit sa 60%. Ang ilang mga bacterial na komunidad ay maaaring lumago sa relatibong halumigmig na higit sa 30%. Naniniwala ang kumpanya na dapat kontrolin ang halumigmig sa hanay na 40% hanggang 60%, na maaaring mabawasan ang epekto ng bacteria at respiratory infections.

Ang relatibong halumigmig sa hanay na 40% hanggang 60% ay isa ring katamtamang saklaw para sa kaginhawaan ng tao. Ang sobrang halumigmig ay maaaring makaramdam ng baradong tao, habang ang halumigmig na mas mababa sa 30% ay maaaring makaramdam ng tuyo, putok-putok na balat, kakulangan sa ginhawa sa paghinga at emosyonal na kalungkutan.

Ang mataas na halumigmig ay talagang binabawasan ang akumulasyon ng mga electrostatic charge sa ibabaw ng cleanroom - isang nais na resulta. Ang mababang halumigmig ay mainam para sa akumulasyon ng singil at isang potensyal na nakakapinsalang mapagkukunan ng electrostatic discharge. Kapag ang kamag-anak na halumigmig ay lumampas sa 50%, ang mga electrostatic na singil ay magsisimulang maglaho nang mabilis, ngunit kapag ang kamag-anak na halumigmig ay mas mababa sa 30%, maaari silang magpatuloy nang mahabang panahon sa isang insulator o isang ungrounded na ibabaw.

Maaaring gamitin ang relatibong halumigmig sa pagitan ng 35% at 40% bilang isang kasiya-siyang kompromiso, at ang mga semiconductor clean room ay karaniwang gumagamit ng mga karagdagang kontrol upang limitahan ang akumulasyon ng mga electrostatic charge.

Ang bilis ng maraming reaksiyong kemikal, kabilang ang mga proseso ng kaagnasan, ay tataas sa pagtaas ng relatibong halumigmig. Ang lahat ng mga ibabaw na nakalantad sa hangin sa paligid ng malinis na silid ay mabilis.